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软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析
... 率,因此,多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义。由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段区域,采用它的数学模型来描述软X射线多层膜的粗糙度,利用最小二乘法曲线拟合法对同步辐射测得的Mo/Si多层膜的反射率曲线进行拟合,得到了非常好的拟合结果,从而确定了多层膜结构参量,同时分析了多层膜周期厚度,厚度比率,界面宽度以及仪器光谱分辨率对多层膜反射特性的影响,这些工作都为镀膜工艺改进提供了一定的理论依据。
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纳米Mo膜的光学特性及最小连续膜厚研究
... Lambda-900分光光度计,在波长为310～1250 nm范围内测量了离子束溅射沉积不同厚度纳米Mo膜的反射率和透射率。选定波长为310 nm,350 nm,400 nm,500 nm,550 nm,632 ... 的反射率、透射率和吸收率随膜厚变化的关系进行了讨论。实验结果显示,纳米Mo膜的光学特性有明显的尺寸效应。提出将薄膜对光波长为550 nm时的反射率和透射率随Mo膜厚度变化关系的交点对应的厚度作为特征厚度, 该厚度可认为是纳米Mo膜生长从不连续膜进入连续膜的最小连续膜厚。利用原子力显微镜(AFM)观测 ...
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咕mo摩卡测试
咕mo摩卡测试
运行服务器端Mocha测试的艰巨任务
用法
使用以下命令 ...
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极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si 多层膜设计与制备
... 和多层膜周期厚度与公转速度关系式，完成了宽带Mo/Si多层膜设计膜系的制备工作。在磁控溅射镀膜机上制备了一系列不同周期厚度和G 值(Mo层厚度与多层膜周期厚度的比值)的Mo/Si多层膜规整膜系，并利用掠入射X 射线反射谱表征，分别得到多层膜周期厚度、Mo层有效厚度和Si层有效厚度与公转速度的关系式以及 ... 结果为在16.8°~24.8°范围内R=42%±1%。根据Mo/Si 多层膜周期厚度和Si 层有效厚度与公转速度 ... 演分析表明实验结果与设计结果之间的细微偏差主要来自Mo/Si多层膜G 值及界面粗糙度标定过程中的 ...
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添加Mn、Mo、Ti合金元素对激光熔覆WC-FeNiCr复合涂层组织及磁性能的影响
研究了添加Mn、Mo、Ti合金元素对激光熔覆FeNiCr+60%WC 复合熔覆涂层微观组织和磁性能的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)， ... 激光熔覆WC-FeNiCr 复合金层与基体具有良好冶金结合，表面无裂纹、气孔等缺陷。Mn、Mo、Ti合金元素的加入，使得复合涂层冶金反应及组织形貌更加复杂，Fe、Ni、Cr元素之间 ... 熔扩散，并生成了新的无磁相TiC，MoC，Fe-Cr(σ相)，Cr0.19Fe0.7Ni0.11，而且Mn、Mo、Ti合金元素的加入使复合涂层相对磁导率显著降低，复合涂层磁性能具有较强的稳定性。
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Mo/Si软X射线多层膜中厚度均匀性的精细控制
... 膜厚均匀的多层膜，并根据理论分析获得了基底的变速路径。将其应用于基底公转速度变速法来制备均匀性可控的大面积Mo/Si软X射线多层膜。小角X射线衍射测试结果表明，采用优化后的变速路径制备的多层膜，样品不同位置的各级次衍射峰位都能很好吻合，说明多层膜的周期厚度基本一致。计算表明该方法在直径200 mm范围内可将周期结构中Mo层的不均匀性从20.6%修正到1.1%，Si层的不均匀性从27.0%修正到1.6%。
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