Void initiation in fcc metals Effect of loading orientation
文件大小:
4473k
资源说明:### 孔洞形成机制及其在面心立方金属中的加载方向效应
#### 摘要解析与核心内容概览
本文通过分子动力学模拟探讨了在面心立方(fcc)金属中孔洞形成的过程以及不同加载方向对孔洞形成的影响。研究发现,特殊的位错环在纳米级孔洞表面的生成及向外扩展是孔洞增长的关键因素。通过对比不同拉伸轴方向([001]、[110]和[111])的情况,揭示了这些位错环的新特性,并证明了位错环的端点始终附着于孔洞表面。此外,加载方向的不同对位错环的形成顺序和相互作用有显著影响,进而导致最初近似球形的孔洞发展出多面体结构。
#### 关键知识点详述
1. **位错环的发射与扩展**
- **关键发现**:特殊位错环的生成和向外扩张是促进孔洞增长的主要原因。
- **物理机制**:当孔洞尺寸达到一定程度时(半径低至0.15nm,包含两个空位),位错环开始在孔洞表面核化并逐渐向外扩展。这发生在约等于材料剪切模量0.12倍的von Mises应力下,接近同质位错环核化的应力水平。
- **实验结果**:通过对位错环前端部分位错的速度测量,发现它们的速度低于声速(大约为1000 m/s)。
2. **加载方向对位错环的影响**
- **研究背景**:考虑了三种不同的加载方向:[001]、[110]和[111]。
- **新发现**:位错环的形成顺序和相互作用受到加载方向的影响。这种差异导致孔洞形状的变化,最初的球形孔洞会发展出多面体特征。
- **物理意义**:不同方向的加载会导致位错环的特定排列方式,进而影响孔洞的生长形态。
3. **纳米晶金属中的孔洞形成**
- **位置效应**:在纳米晶金属中,孔洞首先在晶界处形成。
- **生长机理**:孔洞的增长通过晶界解离和部分位错向晶粒内部发射的方式进行。
- **与单晶的区别**:与单晶相比,纳米晶金属中的孔洞不会成为完全的球形,而是沿晶界生长。
- **应力状态**:讨论了不同应力状态(如静水压和单轴应变)对孔洞形成的影响。
- **核化应力**:纳米晶金属中孔洞核化和增长的临界应力显著低于单晶情况(von Mises应力约为0.05G)。
- **核化位点层次**:材料中孔洞的核化位点存在层次性,从分散相、三相点到晶界,再到空位复合体直至双空位。
#### 结论
本文通过分子动力学模拟深入探讨了孔洞在fcc金属中的形成机制及其受加载方向影响的特性。研究不仅揭示了位错环在孔洞生长过程中的重要作用,还展示了加载方向对孔洞形状演化的影响。此外,对于纳米晶金属中的孔洞形成过程,文章强调了晶界在孔洞核化和生长中的关键作用。这些发现有助于我们更好地理解孔洞演化机制,为材料设计提供了理论支持。
本源码包内暂不包含可直接显示的源代码文件,请下载源码包。